建设模式：企业研发平台。依托建设单位：芜湖映日科技股份有限公司。建设周期：2021-2025年。
主要内容：围绕新型显示以及半导体领域用高纯度溅射靶材长期受日本、韩国、美国等国外企业技术垄断，受制于人的“卡脖子”问题，针对国产替代进口高纯溅射靶材粉体制备、冷等静压成型（cip）、高温烧结、一体式绑定等技术的迫切需求，建设基础材料研发平台、新型显示领域用高纯度溅射靶材研发平台、半导体行业用高纯度溅射靶材研发平台、联合实验室，开展高纯度溅射靶材制备工艺、电子迁移率、晶粒尺寸、纯度、相对密度、电阻率、大尺寸等方面研究，突破新型显示用高迁移率氧化物靶材制备工艺关键技术，实现半导体用高纯度溅射靶材关键技术国产化，促进国内高纯度溅射靶材行业的自主创新，打破国外技术垄断，满足提升产业创新能力、促进区域经济发展方面的需求。